接触式曝光?
光学所老所长的话,让会议室里的气氛,再次变得微妙起来。
在场的专家们,都明白他话里的意思。
所谓的接触式曝光,是光刻技术最原始,也是最简单的形态。
它的优点是,结构简单,对光学系统的要求极低,甚至不需要投影物镜,只需要一个平行的光源,就能工作。
非常适合在当前一穷二白的情况下,快速搭建一个实验平台,用来验证光刻胶、显影、刻蚀等一系列化学工艺。
这听起来,是一个非常务实,非常符合当前国情的选择。
立刻,就有不少专家表示了赞同。
“我同意老张的看法!我们不能好高骛远,一口就想吃成个胖子。饭要一口一口吃,路要一步一步走。”
“没错,先用接触式曝光,把工艺流程跑通,把配套的材料搞出来。等这些基础打好了,再回头来攻关投影式光刻机,不是更稳妥吗?”
“先解决‘有’和‘没有’的问题,再解决‘好’和‘不好’的问题。我支持这个方案!”
一时间,主张“先易后难,稳扎稳打”的声音,占据了上风。
所有人的目光,都看向了林振,等待着他这个总设计师的最终决断。
林振没立刻表态。
他走到黑板前,看着自己刚刚画下的任务分配表,陷入了沉思。
其实,专家们说的有道理。
接触式曝光,确实是当前最现实的选择。
如果他一意孤行,非要一步到位,直接上最先进的投影式光刻机,那很可能会因为目标过高,导致整个项目在起步阶段,就因为无数个“不具备”而停滞不前,最终拖垮所有人的信心。
作为一个穿越者,他最大的优势是,他很清楚的知道,技术发展的客观规律和每一条技术路线的优点与弊端。
他不能盲目地把后世的“标准答案”,生搬硬套到这个一穷二白的年代。
他必须尊重科学,尊重现实。
想到这里,林振心中已经有了答案。
他面对着所有专家,缓缓开口。
“我同意,用接触式曝光,作为我们801工程的第一步。”
此话一出,支持该方案的专家们,都松了一口气。
他们生怕林振这个年轻的天才,会因为过于自信,而听不进他们这些老家伙的建议。
只是,林振接下来的话,却让所有人,都再次把心提到了嗓子眼。
“可是,”林振的音调斩钉截铁,“我只把它,当作一个验证工艺的平台,而不是我们最终要交付的产品。”
“为什么?”
光学所的老所长不解的问。
“接触式曝光,虽然简单,可它有一个致命的缺陷。”
林振解释道。
“那就是,在曝光过程中,掩膜版会和硅片上的光刻胶,直接接触。”
“这种接触,会带来三个无法解决的问题。”
“一,划伤。硅片和掩膜版上,哪怕有最微小的灰尘颗粒,都会在接触和压力的作用下,像砂纸一样,划伤彼此。这会导致掩膜版和硅片的报废率,高得惊人。”
“二,污染。光刻胶里的化学成分,会污染掩膜版。掩膜版上的灰尘,会转移到硅片上。这种交叉污染,在微米级的电路制造中,是致命的。”
“三,寿命。每一次接触,都会对掩膜版造成不可逆的磨损。一块昂贵的掩膜版,可能用不了几次,就报废了。这在未来的大规模量产中,是绝对无法接受的成本。”
林振的分析,鞭辟入里,一针见血。
把接触式曝光的弊端,说得清清楚楚,明明白白。
刚才还支持这个方案的专家们,都沉默了。
他们只看到了接触式曝光的简单,却没看到它背后隐藏的陷阱。
“那……那林总师您的意思是?”
有人小心翼翼的问。
“我的意思,很简单。”
林振拿起粉笔,在黑板上,画了两条并行的线。
“两条腿走路!”
“第一条腿,是刚才大家说的,我们立刻动手,用最快的速度,造一台接触式曝光平台。它的任务,是为了给我们化工所的同志们,提供一个测试和改进光刻胶、显影液、刻蚀液的实验工具。同时,也为我们建立第一代的洁净室环境,积累经验。”
“第二条腿,”林振的目光,扫过光学所和精密机械厂的专家们,“我们同步,启动1:1投影光学系统,和配套的工件台系统的攻关!”
“我不要你们一步就做出能缩小4倍的镜头,也不要你们一步就实现纳米级的精度。”
“我们第一代实用型光刻机的目标是1:1的等比例投影,能稳定实现10微米线宽的加工能力!实验目标,是冲刺8微米!”
“这个目标,比直接上最先进的技术,要现实得多。同时,它也彻底避开了接触式曝光的所有缺陷,为我们未来的技术升级,留下了一条清晰的、可持续发展的道路。”
“我们既要脚踏实地,解决当前的‘有无’问题。也要仰望星空,为未来的‘好坏’问题,做好布局!”
本小章还未完,请点击下一页继续阅读后面精彩内容!